张汝京正在一饼，一苏打。

他也是飞机上睡觉，了飞机就活的典范。

整整20几个小时，除了飞机上吃了一餐，他粒米未，滴未沾。先前赶路，绪亢奋，还没什么觉，现在真是饥辘辘。

得亏林博士是个善良的人，把自己的加班粮贡献了来。

所以张博士才能好不容易咽饼之后，好歹有力说话了：“现在恭喜说的太早了，他们真的只是实验机，连式193纳米波的原型机都造不来的实验机。所以，burn，你必须得跟我走，你得帮他们。”

林本愣住了，意识地反问了一句：“我帮他们？”

张汝京用力：“对！这是一项伟大的突破，它的价值丝毫不逊于紫外线光刻。”

他之所以特地把紫外线光刻拿来说，是因为在80年代后期，也就是差不多十来年前，蓝人ib乃至全球芯片界，一度卯足了劲儿搞x光光刻的研发。

当时就职于ib华生研究中心的林本却提了不同的看法，认为应该紫外线光刻。

因为x光的光源难以解决，需要大型粒加速提供稳定光源，作难度系数，而且很快就会抵达天板，清晰度没办法继续往上升。

相反的，紫外线光刻，光源好说，作简单，提升空间也大。

可他不怎么向老板申请，甚至主动提，只要x光项目组的1/10的经费，依然没能获得支持。

这也成为了他最终选择离开ib的原因之一。

而时间过了十多年，光刻机的发展历程证明了，紫外线才是正确的选择，紫外光刻机先后推了248纳米、193纳米等波的技术，适了半导规模化生产的需求。

现在行业又开始推极紫外（euv）光刻研发。

与此同时，曾经风光一时的x光光刻机已经迅速被边缘化。

张汝京睛闪闪发亮：“我敢打赌，十年，很可能只需要五年的时间，浸式光刻机就会向紫外光打败x光一样，成为新的主。burn，你又要创造历史了！”

真是让人羡慕呀。

但是被烈赞叹的人还于一懵的状态中，他努力消化着对方洋溢的言语，不得不以冷静客观的态度提醒自己的同行：“richard，不是我不愿意参与到这项工作中去，而是我去了能什么呢？你太估我的能力了。事实上，除了帮忙找一些资料之外，我自认为没为他们过什么。”

他摆事实讲理，“镜和光刻胶之间的选用去离，一开始就是iss王自己选的，理由是芯片厂本来就用去离。后来因为去离会跟光刻胶产生反应，他们为了解决这个问题，确实给我写了邮件，我认为是中的杂质太多的原因，应该把中的颗粒、有机、微生全都去除掉，改成超纯。”