他既然是专程来考察光刻机，那对于这些基本参数自然有所了解。

虽然被一大堆突然涌的数据搞得有些脑发胀，但还是锐地捕捉到了其中最关键的分。

na值，180！

“我记得之前提上去的那份评估报告里，最规格的数值孔径预估是170？”

面对这个问题，张汝宁脸上一丝茫然。

他并不清楚有个什么评估报告的事。

常浩南则立刻接过话解释：

“栾主任，那份报告里使用的170数值，值是我们在行不同技术路线横向比较时设定的……嗯……参照基准，当时为了公平对比，说明镥铝石榴石系的优势，我设定的前提是其他所有条件，比如光源、视场、机械平台等都保持一致。”

“但在实际设计过程中，因为镜组的整结构变得简单了很多，所以这系统的底镜有效视场比之前的1500镜组拓宽了大约15……换句话说，在相同na值要求，光线通过镜边缘区域的角度可以更小，这极大地减轻了设计超na系统时最难克服的边缘像差压力……”

“……”

“总之，”他最后总结：“这01的额外提升，是设计自由度增加带来的实际工程红利，也是新方案综合优越的直接现。”

栾文杰未必完全听懂了他的篇大论，但前的结果显然令他心大好：

“所以常院士，刚才你提到华芯国际能以pp工艺大批量生产新一代的7n芯片，关键就在于这个180的na值？”

常浩南：“正是。”

接着，又从旁边拿过一张表格递给对方：

“180的数值孔径，相当于我们把193n duv光源的等效波压缩到了10722n，对比na值135的老系，相当于把特征尺寸的理论极限从40n一举推到27n左右！”

栾文杰的视线表格上飞速移动，最终找到了27n对应的节尺寸——

三星的5n，或tsc的7n ，或英特尔的10n。

总之，已经是目前最的一档。

是过去一般认为，只有euv光刻机才能够涉足的领域。

看到对方的视线已经不再移动，常浩南终于给了阶段的结论：

“这个能力，足以覆盖当前tsc、三星等厂商定义的7n，乃至未来3-5年可能现的更先节的全生产需求！而且，都是依靠单次曝光工艺就能稳定实现的。”

“更重要的是，arf-1800光刻机的主架构，除了这个革命的镜组以外，其余光源系统、密工件台、掩模台以及对准等心系统，都沿用了arf-1500平台上的成熟设计，最大程度地保证了设备的可靠用的转产速度。”

说到这里他稍作停顿，让栾文杰有些缓冲的时间。

之后，又掷地有声地调：

“这意味着，一旦设备付，华芯国际能够在最短时间完成产线切换和产能爬坡，无需漫的调试和适应期，供应链的每一个环节，从材料、设计到制造，都牢牢掌握在我们自己手中，稳定、安全、可控！”

现在和未来，都是我们的

或许是为了给这番论述一个直观的注脚，张汝宁走到测试平台旁，小心翼翼地从特制载架上取一片晶圆，到栾文杰手中。

经过特殊理的硅片表面光如镜，看去并无特殊之。

但旁边的显示屏随之亮起，清晰地呈现一个由无数细微线条构成的、边缘锐利无比的字母。

“f”。

“受限

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