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第376章 极紫外光刻机(1/2)

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苏扬看了半秒刘元龙,:“这些设备,的确是最新的半导心设备,尤其是光刻机。”

说着,指着光刻机:“这台光刻机里面的激光、光束矫正、能量控制、光束形状设置、遮光、能量探测、掩模版都是国际最前沿的技术产品。”

苏扬继续:“另外,掩台的运动控制度达到纳米级,镜、量台、曝光台、封闭框架、减振,也都是目前最先的产品。”

“当然,最主要的还是这台光刻机的光源,并非是目前国际国行的紫外光。”

“所采用的光是135n的x线,也就是极紫外光作为光源。”

苏扬的话音落

现场陡然变得一片寂静。

四名冷的保镖们不知所云,作为退役的军人,他们对这些科技玩意儿一无所知,完全听得云里雾里。

但看到半导公司的人,一个个都瞠目结,傻了似的,又觉得boss的话不明觉厉。

短暂的寂静之后,便是一片哗然,安正国等七人议论纷纷。

“这……”

“采用的是135n的极紫外光?”

“怎么可能,我前两天才刚刚看的新闻,尼康公司的光刻机,也才在准备发32n半导工艺,而光源依旧用的是193n的紫外光啊!”

“是啊,曝光波降到135n,这岂不是意味着……它能够把光刻技术扩展到32n以的特征尺寸了!!!”

“苏总,您别不是在逗我们开心啊,现在全球范围,绝对没有任何一家半导公司,能造这样的设备!”

“苏总,这到底是真是假啊!”

几名远扬半导层,一个个都红着眶,把目光不断在苏扬和光刻机的上徘徊。

作为半导制造业皇冠上的明珠,光刻机的意义不言而喻。

芯片在生产中需要行20-30次的光刻,耗时占到ic生产环节的50左右,占芯片生产成本的三分之一。

通常意义上来说,只要解决光刻机的问题,那么芯片制造的工程,就完结了一半。

因此,也不怪几个搞半导的家伙,像是痴·汉一样看着他。

苏扬笑:“行了,你们也别这样看我,是真是假,我嘴上说了也没用,召集人员行一次实验,不就一目了然了?安总,工厂应该是有光刻胶和硅片的吧?”

安正国一愣,连忙:“有,都储存着呢,我上找人来行实验。”

说着,安正国立刻召集人手,搬来相应的半导材料。

半导芯片生产主要分为ic设计、ic制造、ic封测三大环节。

所谓ic,就是集成电路的英文简写。

ic设计是端技术,也是ter等公司,能屹立于半导行业巅峰最重要的因素之一。

主要据芯片的设计目的,行逻辑设计和规则制定,并据设计图制作掩模,以供后续光刻步骤使用。

而ic制造,就是半导芯片的制造了。

一般,要实现芯片电路图从掩模上转移至硅片上,并实现预定的芯片功能。

包括了光刻、刻蚀、离、薄沉积、化学机械研磨等步骤。

至于ic封测,就是完成对芯片的封装和能、功能测试,是产品付前的最后工序。

ic设计就不提了,苏扬有苹果a6的技术,其中就包括了32n芯片的设计。

另外,商城挂着的ter酷睿系列,也有45n——14n芯片的工

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